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硅靶材

單晶硅靶材、多晶硅靶材、噴涂硅管靶

純度：99.9-99.999%

硅靶材尺寸：

　　● 尺寸01：直徑<360mm 厚度>1mm （形狀：圓片/圓臺/圓棒）；

　　● 尺寸02：長度<600mm 寬度<400mm 厚度>1mm；形狀：矩形/片材/臺階狀(可拼接）；

　　● 尺寸03：外直徑<360mm，內(nèi)直徑>1mm，壁度>1mm，長度>1mm，最長4000mm（形狀：管材/圓環(huán)/旋轉(zhuǎn)靶材）；

　　制作工藝

　　真空磁懸浮熔煉 ，澆鑄成錠，熱機械處理和精密機械加工；也可硅旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂或者燒結(jié)綁定工藝，硅平面靶采用拉晶生長工藝。

　　應用領域：薄膜太陽能工業(yè)，低輻射玻璃工業(yè)，平板顯示工業(yè)，光學鍍膜工業(yè)，半導體工業(yè)，工具及裝飾鍍膜工業(yè)。